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標準簡介：本文件規(guī)定了碳化硅單晶中硼、鋁、氮雜質(zhì)含量的二次離子質(zhì)譜測試方法。本文件適用于碳化硅單晶中硼、鋁、氮雜質(zhì)含量的定量分析，測定范圍為硼含量不小于5×1013 cm-3、鋁含量不小于5×1013 cm-3、氮含量不小于5×1015 cm-3，元素濃度（原子個數(shù)百分比）不大于1%。
標準號：GB/T 41153-2021
標準名稱：碳化硅單晶中硼、鋁、氮雜質(zhì)含量的測定 二次離子質(zhì)譜法
英文名稱：Determination of boron,aluminum and nitrogen impurity content in silicon carbide single crystal—Secondary ion mass spectrometry
標準類型：國家標準
標準性質(zhì)：推薦性
標準狀態(tài)：現(xiàn)行
發(fā)布日期：2021-12-31
實施日期：2022-07-01
中國標準分類號（CCS）：冶金>>金屬化學(xué)分析方法>>H17半金屬及半導(dǎo)體材料分析方法
國際標準分類號（ICS）：冶金>>77.040金屬材料試驗
起草單位：中國電子科技集團公司第四十六研究所、有色金屬技術(shù)經(jīng)濟研究院有限責(zé)任公司、山東天岳先進科技股份有限公司
歸口單位：全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標準化技術(shù)委員會(SAC/TC 203)、
發(fā)布單位：國家市場監(jiān)督管理總局.
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